SWASA由SIDBI的E-Spin Nanotech Private Limited进行创新和开发。
SWASA由E-Spin Nanotech Private Limited在IID Kanpur的SIDBI Incubation进行创新和开发。它对病毒,细菌,花粉,灰尘,雾气和其他污染物的过滤效率达到99%。适合所有亚洲面孔的防漏设计。面罩具有很好的透气性,有助于我们在正常生活中佩戴更长的时间。
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