SWASA is geïnnoveerd en ontwikkeld door E-Spin Nanotech Private Limited bij SIDBI.
SWASA is geïnnoveerd en ontwikkeld door E-Spin Nanotech Private Limited bij SIDBI Incubation, IIT Kanpur. Het heeft een filtratie-efficiëntie van 99% tegen virussen, bacteriën, pollen, stofdeeltjes, nevel en andere verontreinigende stoffen. Het lekvrije ontwerp dat bij alle Aziatische gezichten past. Het masker heeft een zeer goed ademend vermogen, wat ons helpt om in het normale leven langer te dragen.
Meer informatie
Advertentie
Advertentie